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      高純水設(shè)備運行過程中的水解離動力學(xué)分析
      
 
      時間：2014-10-15　作者：admin　點擊：375次
      
 
      基于Nernst-Planck方程建立了高純水設(shè)備（EDI）過程的傳質(zhì)動力學(xué)微分方程.根據(jù)此傳質(zhì)模型方程獲知,高純水設(shè)備（EDI）過程中在陰陽離子交換膜/樹脂表面與溶液接觸的界面層中發(fā)生的水解離的差異性,是在于離子交換界面電勢梯度的差異,而這種差異又與膜和樹脂的結(jié)構(gòu)、性能以及陰陽離子在水溶液中的遷移數(shù)的差異有關(guān).
      
 
      
 
      
 
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