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      高純水設(shè)備處理濃縮分離含鎳離子溶液
      
 
      時間：2015-03-07　作者：admin　點擊：400次
      
 
      通過在高純水設(shè)備的淡化室和濃縮室中同時填充離子交換樹脂而構(gòu)成頻繁倒極電去離子(EDIR)過程,用以解決處理含重金屬離子溶液時高純水設(shè)備內(nèi)部易產(chǎn)生金屬氫氧化物結(jié)垢的關(guān)鍵難題.以NiSO4溶液為處理對象,采用濃縮水部分循環(huán)和濃、淡水流分步切換的運行工藝,利用高純水設(shè)備單一過程,同步獲得了淡化出水的高截留率和濃縮產(chǎn)品水的高濃縮倍數(shù).實驗條件下,倒極周期為4 h可獲*佳分離效果.對于含Ni2+ 50 mg·L-1、pH為3.0的NiSO4溶液,EDIR的淡水出水和濃水出水的Ni2+濃度可分別達到1.5 mg·L-1和3961 mg·L-1,淡水中Ni2+的脫除率為97%,濃水的濃縮倍數(shù)則為79.2,接近理論值.實驗范圍內(nèi),EDIR過程運行穩(wěn)定,未產(chǎn)生Ni(OH)2結(jié)垢.
      
 
      
 
      
 
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