具有經過多個交替的陰離子選擇性膜和陽離子選擇性膜片所約束的未填充電解池的電滲析設備在歷史上由K.Meyer和W.Strauss于1940年作過介紹，然而，因為技能要素、尤其是其較低的電流密度以及其去除低電離物質的有限能力，電滲析裝置，包含填充和未填充兩種類型，都在必定程度上繼續(xù)受到約束，以下將更具體地討論現有技能的ED體系的這些約束和不足，電滲析設備的脫鹽水出口銜接到脫鹽水箱A室，脫鹽水箱A室和脫鹽水箱B室底部連通，脫鹽水箱A室設有脫鹽水溢流口；濃縮水箱經過濃縮水栗銜接到電滲析膜堆組的濃縮水進口，電滲析膜堆組的濃水出口銜接到濃縮水箱，濃縮水箱設有濃水溢流口；極水箱經過極水栗銜接到電滲析膜堆組的極水進口，電滲析膜堆組的極水出口與極水箱銜接，電滲析隔板上與所述料液孔相應的位置具有布水流道，所述布水流道與所述電滲析隔板上的所述料液孔相通，所述電滲析隔板上具有所述所述布水流道的料液孔的數量不定，具有所述布水流道的所述料液孔在電滲析隔板的外延伸部上具有相應的標志，操控體系可調節(jié)這些單元和進給管道之間電驅動參數或進給流，以保持該級中的預訂條件或進給品質，每個電解池對所施加的電壓可進行調整，以減少下降經過濃縮物歧管上的功率損耗，使其電極電勢設置成能夠在該級可承受的電解池對的電壓下操作，該電勢可作為稀釋流的導電率、濃縮流的導電率和/或經過該級的流率的函數，而在單元或級中進行部分設定，當脫鹽水含鹽量到達電滲析設備的設計值時，從脫鹽水箱A室的脫鹽水溢流口流出，經過操控進水量與溢流量相等，到達動態(tài)平衡，從而到達接連進料，接連脫鹽的意圖。